1. EDI操作電壓過高，電流無法調(diào)節(jié)增大：進(jìn)水硬度過高，EDI內(nèi)部結(jié)垢、EDI來水壓力過高等問題，使EDI在運行過程中經(jīng)常出現(xiàn)水錘現(xiàn)象。2. 如果EDI流量過低，水質(zhì)會惡化，壓差會增大：進(jìn)水的余氯、硬度和硅含量會過高。入水前沒有安全過濾器。3. EDI進(jìn)水正常，壓力正常，但水質(zhì)過低，樹脂的功能降低，大電流可再生。
了解詳情
如果原水含鹽量高，建議使用雙極反滲透設(shè)備作為預(yù)脫鹽，其電導(dǎo)率最好保持在1—3μS/cm。進(jìn)水CO2含量高，建議使用脫氣膜或脫氣塔去除CO2。如果pH值偏離中性太大，則用pH值調(diào)節(jié)，使EDI進(jìn)水的pH值保持在7—8。水中的微小離子和顆粒會積聚在EDI模塊的電極和離子交換樹脂上，降低去離子效率，導(dǎo)致電阻率下降。如果EDI設(shè)備中使用的脫鹽樹脂達(dá)到其吸附能力的極限，樹脂將不再能有效地去除離子，從而降低水的純度。
了解詳情
滲透液流量下降或不穩(wěn)定： 檢查前置過濾器：預(yù)過濾器沒有堵塞或需要更換。 檢查壓力：檢查進(jìn)水壓力是否在正常范圍內(nèi)，壓力過低可能導(dǎo)致產(chǎn)品水流量下降。 檢查膜元件:RO膜可能需要清洗或更換，特別是在長時間使用后。
了解詳情
?超純水制備設(shè)備中的水箱和鹽霧池是兩個不同的部件，在設(shè)備中具有不同的功能。鹽霧腐蝕檢測箱主要是利用鹽霧對原材料及其安全防護(hù)層的鹽霧腐蝕性能進(jìn)行檢測。霧蝕的能力。這里所說的鹽霧主要是以純凈水或雙蒸水加一定量的氧化鈉溶液對噴霧設(shè)備或電子元器件進(jìn)行試驗并模擬其抗鹽霧侵蝕的能力。
了解詳情
鍋爐水的pH值應(yīng)在一定范圍內(nèi)，以防止腐蝕或結(jié)垢問題。典型的pH范圍在8.5和9.2之間。高含氧量會導(dǎo)致鍋爐水腐蝕。工業(yè)鍋爐經(jīng)常采取措施減少氧氣的存在。它的堿度和酸度水平需要控制，以保持水的中性或堿性，以減少腐蝕問題。
了解詳情
?所述的反滲透還原劑為有氣味的湖白色透明液體。水溶液呈酸性，微溶于醇。在空氣中易被氧化成硫酸鈉。具有很強(qiáng)的還原性，能與甲醛形成加合物。應(yīng)避光密封保存。反滲透還原劑是膜的專用還原劑，它進(jìn)入一定材料的膜系統(tǒng)。余氯量必須控制在一定值內(nèi)，以避免對元件造成不可逆的損壞。將根據(jù)不同的水質(zhì)和工況條件，有針對性地調(diào)整主藥劑的配比和藥劑的生產(chǎn)工藝。
了解詳情
關(guān)注客服微信